Resumen tecnico: contenido basado en una aplicacion o nota tecnica de Occhio, adaptado para seleccion de equipos de analisis de particulas.

Caracterización de suspensión de CMP, suspensión de alta concentración (Apn-16SD009) Caracterización de suspensión de CMP, suspensión de alta concentración (Apn-16SD009) Recuento de partículas en suspensión de alta concentración El proceso CMP (planarización químico-mecánica) utiliza suspensión coloidal para pulir superficies de obleas semiconductoras.

La presencia de impurezas o partículas sobredimensionadas debe cuantificarse constantemente durante la producción de purines.

Ipac 2 CMP ofrece un método completo para mejorar el recuento de partículas en suspensiones de lodos.

La plataforma IPAC 2 se basa en dispositivos de imágenes de alta gama y células de microchip de última generación.

Dónde ponemos nuestros esfuerzos: aumentar la detección de las partículas más finas mediante el uso de un banco óptico dedicado con una resolución de 172 nm/píxel.

Reduzca la dilución de la muestra; al utilizar un espesor de celda de 50 µ podemos reducir, o incluso eliminar, la dilución de la muestra (normalmente 1:1; 1:10; 1:100).

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Fuente: publicacion tecnica del fabricante.