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Espectrofotometro de absorcion atomica llama/GFAA 185-900 nm
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El sistema óptico de reflexión total garantiza una excelente relación señal/ruido del instrumento.
- Posición para ocho lámparas con diseño de rotación de 360°.
- Software de estación de trabajo bajo sistema MS Windows, con operación concisa, profesional, automática y completa.
- Funciones de QA/QC: en cada ensayo se presentan la DE y el RSD de la absorbancia, y se proporcionan la DE y el RSD de la concentración calculada; la curva de trabajo para muestras estándar verifica automáticamente el coeficiente de correlación.
SKU: B2-01-012040
Descripción general
El sistema óptico de reflexión total garantiza una excelente relación señal/ruido del instrumento.
Características
- Posición para ocho lámparas con diseño de rotación de 360°.
- Software de estación de trabajo bajo sistema MS Windows, con operación concisa, profesional, automática y completa.
- Funciones de QA/QC: en cada ensayo se presentan la DE y el RSD de la absorbancia, y se proporcionan la DE y el RSD de la concentración calculada; la curva de trabajo para muestras estándar verifica automáticamente el coeficiente de correlación.
- Medición con información completa: cada medición guarda resultados de diferentes métodos de procesamiento de datos (promedio, altura de pico, área de pico y resultados estadísticos) para análisis del usuario.
- Base de datos de un clic que completa rápidamente ajustes como longitud de onda, ancho de banda espectral, corriente de lámpara, alto voltaje negativo y balance de energía.
| Especificación |
1
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2
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3
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|---|---|---|---|
| Tipo de instrumento | Sistema de llama | Sistema integrado de llama y horno de grafito atómico | Sistema integrado de llama y horno de grafito (GFAA) |
| Sistema óptico · Tipo de haz | Doble haz | Haz doble | Doble haz |
| Sistema óptico · Rejilla de difracción | Surco 1800 líneas/mm, longitud de onda de resplandor 250nm | 1800 líneas/mm de surcos, longitud de onda de blaze 250 nm | Ranura 1800 líneas/mm, longitud de onda de blaze 250 nm |
| Sistema óptico · Rango de longitud de onda | 185~900nm | 185~900 nm | 185~900 nm |
| Sistema óptico · Ancho de banda espectral | 0,1, 0,2, 0,4, 0,7, 1,4, 2,0nm | 0,1, 0,2, 0,4, 0,7, 1,4, 2,0 nm | 0,1; 0,2; 0,4; 0,7; 1,4; 2,0 nm |
| Sistema óptico · Exactitud de longitud de onda | ±0,15nm | ±0,2 nm | ±0,15 nm |
| Sistema óptico · Repetibilidad de longitud de onda | ≤0,05nm | ≤0,1 nm | ≤0,05 nm |
| Sistema óptico · Desviación del ancho de banda espectral | ±0,02nm | ±0,02 nm | ±0,02 nm |
| Sistema óptico · Soporte de lámparas | 8 (admite precalentamiento simultáneo de 1~4 lámparas) | 8 (admite precalentamiento simultáneo de 1~4 lámparas) | 8 (admite precalentamiento simultáneo de 1~4 lámparas) |
| Rendimiento fotométrico · Modos de lectura | Transmitancia, absorbancia, concentración | Transmitancia, absorbancia, concentración | Transmitancia, absorbancia, concentración |
| Rendimiento fotométrico · Rango fotométrico | 0~125%T, -0,1~3,00Abs | 0~125%T, -0,1~3,00 Abs | 0~125 %T, -0,1~3,00 Abs |
| Rendimiento fotométrico · Estabilidad de la línea base | Deriva ±0,002Abs (estable 30min) Deriva ±0,004Abs (dinámico 15min) | Deriva ±0,003 Abs (estable 30 min) Deriva ±0,005 Abs (dinámico 15 min) | Deriva ±0,002 Abs (estable 30 min) Deriva ±0,004 Abs (dinámico 15 min) |
| Rendimiento fotométrico · Capacidad de corrección de fondo | Lámpara de deuterio: ≥40 veces (a 1Abs) Autorreversión: ≥80 veces (a 1Abs) | Lámpara de deuterio: ≥40 veces (a 1 Abs) | Lámpara de deuterio: ≥40 veces (a 1 Abs) Autorreversión: ≥80 veces (a 1 Abs) |
| Análisis por llama · Concentración característica | Método por llama para Cu: ≤0,02μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,035 μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,02 μg/mL |
| Análisis por llama · Límite de detección | Método por llama para Cu: ≤0,004μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,006 μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,004 μg/mL |
| Análisis por llama · Repetibilidad | Método por llama para Cu: ≤0,5% | Método por llama para Cu: ≤0,6% | Método por llama para Cu: ≤0,5 % |
| Análisis por llama · Quemador | Cabeza de quemador de titanio | Cabeza de quemador de titanio | Cabeza de quemador de titanio |
| Análisis por llama · Nebulizador | Nebulizador de vidrio de alta eficiencia | Nebulizador de vidrio de alta eficiencia | Nebulizador de vidrio de alta eficiencia |
| Análisis por llama · Funciones de seguridad | Protección contra presión anormal de gas de llama y gas auxiliar | Protección por presión anormal de gas de llama y gas auxiliar | Protección por presión anormal del gas de llama y del gas auxiliar |
| Análisis por horno de grafito · Masa característica | — | Cd ≤0,6 pg Cu ≤20 pg | Cd ≤0,5 pg Cu ≤20 pg |
| Análisis por horno de grafito · Límite de detección | — | Cd ≤1,0 pg Cu ≤25 pg | Cd ≤0,8 pg Cu ≤25 pg |
| Análisis por horno de grafito · Repetibilidad (Cd) | — | ≤3% | ≤2,5 % |
| Análisis por horno de grafito · Rango de temperatura del horno de grafito | — | TA~3000°C | TA~3000°C |
| Análisis por horno de grafito · Velocidad de calentamiento | — | Máxima 2000°C/s | Máxima 2000°C/s |
| Análisis por horno de grafito · Funciones de seguridad | — | Alarmas por flujo de agua de enfriamiento, presión de gas protector, temperatura del cuerpo del horno, temperatura de la fuente de alimentación e instalación del tubo de grafito | Alarmas por flujo de agua de enfriamiento, presión del gas de protección, temperatura del cuerpo del horno, temperatura de la fuente de alimentación e instalación del tubo de grafito |
| Procesamiento de datos · Método de cálculo de concentración | Método de curva estándar (6 métodos de ajuste lineal y no lineal), método de adiciones estándar, método de interpolación | Método de curva patrón (6 métodos de ajuste lineal y no lineal), método de adición estándar, método de interpolación | Método de curva de calibración (6 métodos de ajuste lineal y no lineal), método de adición estándar, método de interpolación |
| Procesamiento de datos · Número de mediciones repetidas | 1~30 veces; calcula y proporciona el valor promedio, la desviación estándar y la desviación estándar relativa de absorbancia y concentración | 1~30 veces; calcula y entrega el valor promedio, la desviación estándar y la desviación estándar relativa de absorbancia y concentración | 1~30 veces; calcula y entrega el valor promedio, la desviación estándar y la desviación estándar relativa de la absorbancia y la concentración |
| Accesorio estándar | Lámpara de elemento (Cu×1), compresor de aire libre de aceite, software, unidad USB | Lámpara de elemento (Cu*1, Cd*1), compresor de aire sin aceite, software, memoria USB, tubo de grafito*5, pipeta*1 (5~50 μl), punta de pipeta*1000 (200 μl) | Lámpara de elemento (Cu*1, Cd*1), compresor de aire sin aceite, software, disco U, tubo de grafito*5, pipeta*1 (5~50 μl), punta de pipeta*1000 (200 μl) |
| Accesorio opcional | Llama de alta temperatura enriquecida con oxígeno, generador de hidruros, software de auditoría y trazabilidad, muestreador automático para llama | Llama de alta temperatura enriquecida con oxígeno, generador de hidruros, software de auditoría y trazabilidad, enfriador de recirculación, muestreador automático para horno de grafito, muestreador automático para llama | Llama enriquecida en oxígeno de alta temperatura, generador de hidruros, software de auditoría y seguimiento, enfriador de recirculación, muestreador automático para horno de grafito, muestreador automático para llama |
| Alimentación eléctrica | AC 220V, 50/60Hz | CA 220 V, 50/60 Hz | CA 220 V, 50/60 Hz |
| Dimensiones externas (An×Pr×Al) | 830*650*560mm | 830*650*560 mm | 830*650*560 mm |
| Dimensiones del embalaje (An×Pr×Al) | 1010*780*830mm | 1010*780*830 mm | 1010*780*830 mm |
| Peso neto | 85kg | 120 kg | 125 kg |
| Peso bruto | 135kg | 183 kg | 183 kg |
| Variante | Tipo de instrumento | Sistema óptico · Tipo de haz | Sistema óptico · Rejilla de difracción | Sistema óptico · Rango de longitud de onda | Sistema óptico · Ancho de banda espectral | Sistema óptico · Exactitud de longitud de onda | Sistema óptico · Repetibilidad de longitud de onda | Sistema óptico · Desviación del ancho de banda espectral | Sistema óptico · Soporte de lámparas | Rendimiento fotométrico · Modos de lectura | Rendimiento fotométrico · Rango fotométrico | Rendimiento fotométrico · Estabilidad de la línea base | Rendimiento fotométrico · Capacidad de corrección de fondo | Análisis por llama · Concentración característica | Análisis por llama · Límite de detección | Análisis por llama · Repetibilidad | Análisis por llama · Quemador | Análisis por llama · Nebulizador | Análisis por llama · Funciones de seguridad | Análisis por horno de grafito · Masa característica | Análisis por horno de grafito · Límite de detección | Análisis por horno de grafito · Repetibilidad (Cd) | Análisis por horno de grafito · Rango de temperatura del horno de grafito | Análisis por horno de grafito · Velocidad de calentamiento | Análisis por horno de grafito · Funciones de seguridad | Procesamiento de datos · Método de cálculo de concentración | Procesamiento de datos · Número de mediciones repetidas | Accesorio estándar | Accesorio opcional | Alimentación eléctrica | Dimensiones externas (An×Pr×Al) | Dimensiones del embalaje (An×Pr×Al) | Peso neto | Peso bruto |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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1
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Sistema de llama | Doble haz | Surco 1800 líneas/mm, longitud de onda de resplandor 250nm | 185~900nm | 0,1, 0,2, 0,4, 0,7, 1,4, 2,0nm | ±0,15nm | ≤0,05nm | ±0,02nm | 8 (admite precalentamiento simultáneo de 1~4 lámparas) | Transmitancia, absorbancia, concentración | 0~125%T, -0,1~3,00Abs | Deriva ±0,002Abs (estable 30min) Deriva ±0,004Abs (dinámico 15min) | Lámpara de deuterio: ≥40 veces (a 1Abs) Autorreversión: ≥80 veces (a 1Abs) | Método por llama para Cu: ≤0,02μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,004μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,5% | Cabeza de quemador de titanio | Nebulizador de vidrio de alta eficiencia | Protección contra presión anormal de gas de llama y gas auxiliar | — | — | — | — | — | — | Método de curva estándar (6 métodos de ajuste lineal y no lineal), método de adiciones estándar, método de interpolación | 1~30 veces; calcula y proporciona el valor promedio, la desviación estándar y la desviación estándar relativa de absorbancia y concentración | Lámpara de elemento (Cu×1), compresor de aire libre de aceite, software, unidad USB | Llama de alta temperatura enriquecida con oxígeno, generador de hidruros, software de auditoría y trazabilidad, muestreador automático para llama | AC 220V, 50/60Hz | 830*650*560mm | 1010*780*830mm | 85kg | 135kg |
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2
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Sistema integrado de llama y horno de grafito atómico | Haz doble | 1800 líneas/mm de surcos, longitud de onda de blaze 250 nm | 185~900 nm | 0,1, 0,2, 0,4, 0,7, 1,4, 2,0 nm | ±0,2 nm | ≤0,1 nm | ±0,02 nm | 8 (admite precalentamiento simultáneo de 1~4 lámparas) | Transmitancia, absorbancia, concentración | 0~125%T, -0,1~3,00 Abs | Deriva ±0,003 Abs (estable 30 min) Deriva ±0,005 Abs (dinámico 15 min) | Lámpara de deuterio: ≥40 veces (a 1 Abs) | Método por llama para Cu: ≤0,035 μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,006 μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,6% | Cabeza de quemador de titanio | Nebulizador de vidrio de alta eficiencia | Protección por presión anormal de gas de llama y gas auxiliar | Cd ≤0,6 pg Cu ≤20 pg | Cd ≤1,0 pg Cu ≤25 pg | ≤3% | TA~3000°C | Máxima 2000°C/s | Alarmas por flujo de agua de enfriamiento, presión de gas protector, temperatura del cuerpo del horno, temperatura de la fuente de alimentación e instalación del tubo de grafito | Método de curva patrón (6 métodos de ajuste lineal y no lineal), método de adición estándar, método de interpolación | 1~30 veces; calcula y entrega el valor promedio, la desviación estándar y la desviación estándar relativa de absorbancia y concentración | Lámpara de elemento (Cu*1, Cd*1), compresor de aire sin aceite, software, memoria USB, tubo de grafito*5, pipeta*1 (5~50 μl), punta de pipeta*1000 (200 μl) | Llama de alta temperatura enriquecida con oxígeno, generador de hidruros, software de auditoría y trazabilidad, enfriador de recirculación, muestreador automático para horno de grafito, muestreador automático para llama | CA 220 V, 50/60 Hz | 830*650*560 mm | 1010*780*830 mm | 120 kg | 183 kg |
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3
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Sistema integrado de llama y horno de grafito (GFAA) | Doble haz | Ranura 1800 líneas/mm, longitud de onda de blaze 250 nm | 185~900 nm | 0,1; 0,2; 0,4; 0,7; 1,4; 2,0 nm | ±0,15 nm | ≤0,05 nm | ±0,02 nm | 8 (admite precalentamiento simultáneo de 1~4 lámparas) | Transmitancia, absorbancia, concentración | 0~125 %T, -0,1~3,00 Abs | Deriva ±0,002 Abs (estable 30 min) Deriva ±0,004 Abs (dinámico 15 min) | Lámpara de deuterio: ≥40 veces (a 1 Abs) Autorreversión: ≥80 veces (a 1 Abs) | Método por llama para Cu: ≤0,02 μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,004 μg/mL | Método por llama para Cu: ≤0,5 % | Cabeza de quemador de titanio | Nebulizador de vidrio de alta eficiencia | Protección por presión anormal del gas de llama y del gas auxiliar | Cd ≤0,5 pg Cu ≤20 pg | Cd ≤0,8 pg Cu ≤25 pg | ≤2,5 % | TA~3000°C | Máxima 2000°C/s | Alarmas por flujo de agua de enfriamiento, presión del gas de protección, temperatura del cuerpo del horno, temperatura de la fuente de alimentación e instalación del tubo de grafito | Método de curva de calibración (6 métodos de ajuste lineal y no lineal), método de adición estándar, método de interpolación | 1~30 veces; calcula y entrega el valor promedio, la desviación estándar y la desviación estándar relativa de la absorbancia y la concentración | Lámpara de elemento (Cu*1, Cd*1), compresor de aire sin aceite, software, disco U, tubo de grafito*5, pipeta*1 (5~50 μl), punta de pipeta*1000 (200 μl) | Llama enriquecida en oxígeno de alta temperatura, generador de hidruros, software de auditoría y seguimiento, enfriador de recirculación, muestreador automático para horno de grafito, muestreador automático para llama | CA 220 V, 50/60 Hz | 830*650*560 mm | 1010*780*830 mm | 125 kg | 183 kg |
Guia de compra
Este producto agrupa atomizacion: llama dedicada o llama con horno de grafitoes de espectrofotometría de absorción atómica para determinación de elementos traza y mayores. La diferencia principal de compra es el tipo de atomización requerida: una atomizacion: llama dedicada o llama con horno de grafito trabaja como sistema de llama dedicado y las otras integran llama con horno de grafito.
Para análisis rutinario por llama, la atomizacion: llama dedicada o llama con horno de grafito de llama dedicada puede ser suficiente si el método requerido no exige horno de grafito. Para laboratorios que necesitan cubrir tanto análisis por llama como por horno de grafito, corresponde revisar las atomizacion: llama dedicada o llama con horno de grafitoes integradas.
Usos indicados por la evidencia:
Variables relevantes para seleccionar:
- Monitoreo ambiental.
- Pruebas de seguridad alimentaria.
- Análisis metalúrgico.
- Determinación de elementos traza y mayores.
- Tipo de instrumento: llama dedicada o llama integrada con horno de grafito.
- Rango de longitud de onda de 185~900 nm.
- Ancho de banda espectral disponible.
- Precisión y repetibilidad de longitud de onda.
Que cambia entre variantes
Para análisis rutinario por llama, la atomizacion: llama dedicada o llama con horno de grafito de llama dedicada puede ser suficiente si el método requerido no exige horno de grafito. Para laboratorios que necesitan cubrir tanto análisis por llama como por horno de grafito, corresponde revisar las atomizacion: llama dedicada o llama con horno de grafitoes integradas.
Escenarios de uso recomendados
Usos indicados por la evidencia: - Monitoreo ambiental. - Pruebas de seguridad alimentaria. - Análisis metalúrgico. - Determinación de elementos traza y mayores.
Como elegir rapido
Variables relevantes para seleccionar: - Tipo de instrumento: llama dedicada o llama integrada con horno de grafito. - Rango de longitud de onda de 185~900 nm. - Ancho de banda espectral disponible. - Precisión y repetibilidad de longitud de onda. - Estabilidad de línea base. - Capacidad de corrección de fondo. - Parámetros de análisis de llama y, cuando aplique, de horno de grafito. - Accesorios estándar y opcionales requeridos para el flujo de trabajo del laboratorio.
Recomendacion de compra
Variables relevantes para seleccionar: - Tipo de instrumento: llama dedicada o llama integrada con horno de grafito. - Rango de longitud de onda de 185~900 nm. - Ancho de banda espectral disponible. - Precisión y repetibilidad de longitud de onda. - Estabilidad de línea base. - Capacidad de corrección de fondo. - Parámetros de análisis de llama y, cuando aplique, de horno de grafito. - Accesorios estándar y opcionales requeridos para el flujo de trabajo del laboratorio.