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Espectrofotometro de absorcion atomica llama/GFAA 185-900 nm

Espectrofotometro de absorcion atomica llama/GFAA 185-900 nm

Belltronic https://www.cotecno.cl/shop/b2-01-012040-espectrofotometro-de-absorcion-atomica-llama-gfaa-185-900-nm-642718 https://www.cotecno.cl/web/image/product.template/642718/image_1920?unique=c0ab1b4

La versión de sistema de llama es un espectrofotómetro de absorción atómica de llama dedicado; las versiones de sistema integrado de llama y GFAA combinan las tecnologías de atomización por llama y por horno de grafito. Estos instrumentos se utilizan en monitoreo ambiental, ensayos de inocuidad alimentaria y análisis metalúrgico para la determinación de elementos traza y mayoritarios.

  • Sistema óptico de reflexión total para la relación señal-ruido del instrumento.
  • Ocho posiciones de lámpara con diseño de rotación de 360°.
  • Software de estación de trabajo bajo el sistema MS Windows, de operación automática y completa.

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SKU: B2-01-012040

 

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Descripción general

La versión de sistema de llama es un espectrofotómetro de absorción atómica de llama dedicado; las versiones de sistema integrado de llama y GFAA combinan las tecnologías de atomización por llama y por horno de grafito. Estos instrumentos se utilizan en monitoreo ambiental, ensayos de inocuidad alimentaria y análisis metalúrgico para la determinación de elementos traza y mayoritarios.

Características

  1. Sistema óptico de reflexión total para la relación señal-ruido del instrumento.
  2. Ocho posiciones de lámpara con diseño de rotación de 360°.
  3. Software de estación de trabajo bajo el sistema MS Windows, de operación automática y completa.
  4. Funciones QA/QC: en cada ensayo se entregan la desviación estándar (SD) y la desviación estándar relativa (RSD) de la absorbancia, junto con la SD y la RSD de la concentración calculada; la curva de trabajo de las muestras patrón verifica automáticamente el coeficiente de correlación.
  5. Medición de información completa: cada medición guarda los resultados de distintos métodos de procesamiento de datos (promedio, altura de pico, área de pico y resultados estadísticos) para el análisis del usuario.
  6. Base de datos de un clic que completa rápidamente ajustes como longitud de onda, ancho de banda espectral, corriente de la lámpara, alto voltaje negativo y balance de energía.
  7. Método de calentamiento del horno de grafito: calentamiento longitudinal del horno de grafito (mantiene uniforme la temperatura de la fase gaseosa dentro del tubo de grafito, permite que la muestra alcance la temperatura de atomización de forma simultánea e instantánea, mejora la eficiencia de atomización y la exactitud de la medición, reduce los requisitos de desempeño del cuerpo del horno y prolonga su vida útil) (sólo en las versiones de sistema integrado de llama y GFAA).
Especificación
±0.15nm - Sistema de llama
±0.2nm - Sistema integrado de llama y GFAA
±0.15nm - Sistema integrado de llama y GFAA
Tipo de instrumento Sistema de llama Sistema integrado de llama y GFAA Sistema integrado de llama y GFAA
Sistema óptico · Tipo de haz Doble haz
Sistema óptico · Red de difracción Surcos 1800líneas/mm, longitud de onda de blaze 250nm
Sistema óptico · Rango de longitud de onda 185~900nm
Sistema óptico · Ancho de banda espectral 0.1, 0.2, 0.4, 0.7, 1.4, 2.0nm
Sistema óptico · Exactitud de longitud de onda ±0.15nm ±0.2nm ±0.15nm
Sistema óptico · Repetibilidad de longitud de onda ≤0.05nm ≤0.1nm ≤0.05nm
Sistema óptico · Desviación del ancho de banda espectral ±0.02nm
Sistema óptico · Portalámparas 8(Admite precalentamiento simultáneo de 1~4 lámparas)
Desempeño fotométrico · Modos de lectura Transmitancia, absorbancia, concentración
Desempeño fotométrico · Rango fotométrico 0~125%T, -0.1~3.00Abs
Desempeño fotométrico · Estabilidad de línea base Deriva ±0.002Abs(Estable 30min) Deriva ±0.004Abs(Dinámica 15min) Deriva ±0.003Abs(Estable 30min) Deriva ±0.005Abs(Dinámica 15min) Deriva ±0.002Abs(Estable 30min) Deriva ±0.004Abs(Dinámica 15min)
Desempeño fotométrico · Capacidad de corrección de fondo Lámpara de deuterio: ≥40 veces(a 1Abs) Autoinversión: ≥80 veces(a 1Abs) Lámpara de deuterio: ≥40 veces(a 1Abs) Lámpara de deuterio: ≥40 veces(a 1Abs) Autoinversión: ≥80 veces(a 1Abs)
Análisis por llama · Concentración característica Método de llama para Cu: ≤0.02μg/mL Método de llama para Cu: ≤0.035μg/mL Método de llama para Cu: ≤0.02μg/mL
Análisis por llama · Límite de detección Método de llama para Cu: ≤0.004μg/mL Método de llama para Cu: ≤0.006μg/mL Método de llama para Cu: ≤0.004μg/mL
Análisis por llama · Repetibilidad Método de llama para Cu: ≤0.5% Método de llama para Cu: ≤0.6% Método de llama para Cu: ≤0.5%
Análisis por llama · Quemador Cabezal de quemador de titanio
Análisis por llama · Nebulizador Nebulizador de vidrio de alta eficiencia
Análisis por llama · Funciones de seguridad Protección contra presión anormal del gas de llama y del gas auxiliar
Análisis por horno de grafito · Masa característica — Cd ≤0.6pg Cu ≤20pg Cd ≤0.5pg Cu ≤20pg
Análisis por horno de grafito · Límite de detección — Cd ≤1.0pg Cu ≤25pg Cd ≤0.8pg Cu ≤25pg
Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd) — ≤3% ≤2.5%
Análisis por horno de grafito · Rango de temperatura del horno de grafito — Temperatura ambiente~3000°C Temperatura ambiente~3000°C
Análisis por horno de grafito · Velocidad de calentamiento — Máximo 2000°C/s Máximo 2000°C/s
Análisis por horno de grafito · Funciones de seguridad — Alarmas de flujo de agua de refrigeración, presión del gas protector, temperatura del cuerpo del horno, temperatura de la fuente de alimentación e instalación del tubo de grafito Alarmas de flujo de agua de refrigeración, presión del gas protector, temperatura del cuerpo del horno, temperatura de la fuente de alimentación e instalación del tubo de grafito
Procesamiento de datos · Método de cálculo de concentración Método de curva estándar(6 métodos de ajuste lineales y no lineales), método de adición estándar, método de interpolación
Procesamiento de datos · Número de mediciones repetidas 1~30 veces; calcula y entrega el promedio, la desviación estándar y la desviación estándar relativa de la absorbancia y de la concentración
Accesorio estándar Lámpara de elemento(Cu*1), compresor de aire libre de aceite, software, memoria USB Lámpara de elemento(Cu*1, Cd*1), compresor de aire libre de aceite, software, memoria USB, tubo de grafito*5, pipeta*1(5~50μl), punta de pipeta*1000(200μl) Lámpara de elemento(Cu*1, Cd*1), compresor de aire libre de aceite, software, memoria USB, tubo de grafito*5, pipeta*1(5~50μl), punta de pipeta*1000(200μl)
Accesorio opcional Llama de alta temperatura enriquecida con oxígeno, generador de hidruros, software de pista de auditoría, automuestreador de llama Llama de alta temperatura enriquecida con oxígeno, generador de hidruros, software de pista de auditoría, enfriador recirculante, automuestreador de horno de grafito, automuestreador de llama Llama de alta temperatura enriquecida con oxígeno, generador de hidruros, software de pista de auditoría, enfriador recirculante, automuestreador de horno de grafito, automuestreador de llama
Alimentación eléctrica AC 220V, 50/60Hz
Dimensiones externas (An×Pr×Al) 830*650*560mm
Dimensiones de embalaje (An×Pr×Al) 1010*780*830mm
Peso neto 85kg 120kg 125kg
Peso bruto 135kg 183kg 183kg

  1. Confirme el rango espectral

    Compare las longitudes de onda de los elementos que debe medir con el rango de longitud de onda y con los anchos de banda espectrales disponibles.

    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): No aplica
      • Sistema óptico · Rango de longitud de onda: 185~900nm
      • Sistema óptico · Ancho de banda espectral: 0.1, 0.2, 0.4, 0.7, 1.4, 2.0nm
    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): ≤3%
      • Sistema óptico · Rango de longitud de onda: 185~900nm
      • Sistema óptico · Ancho de banda espectral: 0.1, 0.2, 0.4, 0.7, 1.4, 2.0nm
    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): ≤2.5%
      • Sistema óptico · Rango de longitud de onda: 185~900nm
      • Sistema óptico · Ancho de banda espectral: 0.1, 0.2, 0.4, 0.7, 1.4, 2.0nm

  2. Revise el nivel de detección requerido

    Compare la concentración que espera analizar con el límite de detección y con la repetibilidad del método de llama de cada versión.

    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): No aplica
      • Análisis por llama · Límite de detección: Método de llama para Cu: ≤0.004μg/mL
      • Análisis por llama · Repetibilidad: Método de llama para Cu: ≤0.5%
    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): ≤3%
      • Análisis por llama · Límite de detección: Método de llama para Cu: ≤0.006μg/mL
      • Análisis por llama · Repetibilidad: Método de llama para Cu: ≤0.6%
    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): ≤2.5%
      • Análisis por llama · Límite de detección: Método de llama para Cu: ≤0.004μg/mL
      • Análisis por llama · Repetibilidad: Método de llama para Cu: ≤0.5%

  3. Prevea la instalación

    Confirme que la alimentación eléctrica sea compatible y que la mesa de trabajo admita las dimensiones externas del equipo.

    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): No aplica
      • Alimentación eléctrica: AC 220V, 50/60Hz
      • Dimensiones externas (An×Pr×Al): 830*650*560mm
    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): ≤3%
      • Alimentación eléctrica: AC 220V, 50/60Hz
      • Dimensiones externas (An×Pr×Al): 830*650*560mm
    • Análisis por horno de grafito · Repetibilidad(Cd): ≤2.5%
      • Alimentación eléctrica: AC 220V, 50/60Hz
      • Dimensiones externas (An×Pr×Al): 830*650*560mm