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Espectrofotometro UV/VIS 4 nm 1000 y 1200
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Espectrofotometro UV/VIS 4 nm 1000 y 1200
Instrumento analitico de haz simple para cuantificacion en las regiones ultravioleta y visible. Cuatro configuraciones 1000/1200, UV-VIS y VIS, todas con ancho de banda 4 nm.
Rango de longitud de onda200~1100 / 325~1100 / 190~1100 / 320~1100 nm
Ancho de banda espectral4 nm
PantallaLCD 128*64
Fuente de alimentacionCA 85~265 V, 50/60 Hz
Resumen de lectura rapida; especificaciones completas en la pestana tecnica.
datos tecnicos visiblesguia de compra estructurada
SKU: B2-01-012528
Descripción general
Pantalla LCD de gran tamaño (128×64 puntos).
Características
- Diseño prealineado que permite al usuario cambiar las lámparas de forma conveniente.
- Espejo óptico con recubrimiento de SiO₂, que reduce por completo la contaminación externa.
- Lámpara de deuterio ambiental, que previene la inhalación de ozono.
- Rejilla de alta calidad y trayectoria óptica totalmente hermética, que garantiza una luz dispersa ultrabaja.
- Monitoreo en tiempo real de la vida útil de la lámpara de deuterio y la lámpara de wolframio mediante sistema avanzado.
- Calibración de longitud de onda, ajuste de longitud de onda, cambio de fuente luminosa y calibración de corriente oscura de forma automática.
- Software opcional para PC que amplía las aplicaciones a análisis cuantitativo, multilongitud de onda y cinética.
- Amplio uso en química orgánica, química inorgánica, ciencias de la vida, alimentos, agricultura, geología, metalurgia y medio ambiente, entre otros campos.
| Especificación |
UV-VIS 4 nm 1000
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UV-VIS 4 nm 1200
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VIS 4 nm 1000
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VIS 4 nm 1200
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|---|---|---|---|---|
| Sistema óptico | Haz simple, rejilla de 1200 líneas/mm | Haz simple, rejilla de 1200 líneas/mm | Haz simple, rejilla 1200 líneas/mm | Haz simple, rejilla de 1200 líneas/mm |
| Rango de longitud de onda | 200~1100 nm | 190~1100nm | 325~1100nm | 320~1100 nm |
| Ancho de banda espectral | 4 nm | 4nm | 4nm | 4 nm |
| Exactitud de longitud de onda | ±1,8 nm | ±1,0nm | ±1,8nm | ±1,0 nm |
| Repetibilidad de longitud de onda | ≤0,5 nm | ≤0,5nm | ≤0,5nm | ≤0,5 nm |
| Exactitud fotométrica | ±0,002 A (0~0,5 Abs), ±0,004 A (0,5~1,0 Abs), ±0,5 %T (0~100 %T) | ±0,002A(0~0,5Abs), ±0,004A(0,5~1,0Abs), ±0,5%T(0~100%T) | ±0,002A(0~0,5Abs), ±0,004A(0,5~1,0Abs), ±0,5%T(0~100%T) | ±0,002 A (0~0,5 Abs), ±0,004 A (0,5~1,0 Abs), ±0,5 %T (0~100 %T) |
| Repetibilidad fotométrica | 0,001 Abs (0~0,5 Abs), 0,002 Abs (0,5~1,0 Abs), ≤0,2 %T (0~100 %T) | 0,001Abs(0~0,5Abs), 0,002Abs(0,5~1,0Abs), ≤0,2%T(0~100%T) | 0,001Abs(0~0,5Abs), 0,002Abs(0,5~1,0Abs), ≤0,2%T(0~100%T) | 0,001 Abs (0~0,5 Abs), 0,002 Abs (0,5~1,0 Abs), ≤0,2 %T (0~100 %T) |
| Luz dispersa | ≤0,2 %T @360 nm; 220 nm (UV) | ≤0,2%T@360nm; 220nm(UV) | ≤0,2%T@360nm; 220nm(UV) | ≤0,2 %T@360 nm; 220 nm (UV) |
| Estabilidad | ±0,002 A/h @500 nm | ±0,002A/h@500nm | ±0,002A/h@500nm | ±0,002 A/h@500 nm |
| Ruido | ±0,001 A | ±0,001A | ±0,001A | ±0,001 A |
| Pantalla | LCD de 128*64 puntos | LCD de 128×64 puntos | LCD de 128*64 puntos | LCD de 128×64 puntos |
| Modo fotométrico | T, A, C, E | T, A, C, E | T, A, C, E | T, A, C, E |
| Rango fotométrico | 0~200 %T, -0,301~3,0 A | 0~200%T, -0,301~3,0A | 0~200%T, -0,301~3,0A | 0~200 %T, -0,301~3,0 A |
| Detector | Fotodiodo de silicio | Fotodiodo de silicio | Fotodiodo de silicio | Fotodiodo de silicio |
| Fuente de luz | Lámpara de deuterio, lámpara de tungsteno | Lámpara de deuterio, lámpara de tungsteno | Lámpara de deuterio, lámpara de tungsteno | Lámpara de deuterio, lámpara de tungsteno |
| Entrada | Teclado de membrana | Teclado de membrana | Teclado de membrana | Teclado de membrana |
| Salida | Impresión en paralelo, USB 1.0 | Impresión por puerto paralelo, USB 1.0 | Impresión en paralelo, USB 1.0 | Impresión en paralelo, USB 1.0 |
| Alimentación eléctrica | CA 85~265 V, 50/60 Hz | AC85~265V, 50/60Hz | AC85~265V, 50/60Hz | CA 85~265 V, 50/60 Hz |
| Accesorios estándar | Cubeta de vidrio de 1 cm*4, cubeta de cuarzo de 1 cm*2, portacubetas cuádruple de 1 cm*1 | Cubeta de vidrio de 1 cm×4, cubeta de cuarzo de 1 cm×2, portacubetas cuádruple de 1 cm×1 | Cubeta de vidrio de 1cm*4, portacubetas cuádruple de 1cm*1 | Cubeta de vidrio de 1 cm ×4, portacubetas cuádruple de 1 cm ×1 |
| Accesorios opcionales | Software de aplicación general, portacubetas estándar de ranura simple de 1 cm, portacubetas de recorrido óptico largo, cubeta, microcubeta, soporte absorbedor tipo tubo de ensayo, portamuestras sólidas, lámpara de deuterio (solo para series UV), lámpara de tungsteno, portacubetas cuádruple, impresora, cubeta de absorción de temperatura constante tipo baño de agua de cuatro ranuras, microcubeta de absorción ajustable en X-Y, cubeta de absorción de temperatura constante tipo baño simple | Software de aplicación general, portacubetas estándar de un solo canal de 1 cm, portacubetas de trayectoria óptica larga, cubeta, microcubeta, soporte absorvedor tipo tubo de ensayo, portamuestras sólidas, lámpara de deuterio (solo para serie UV), lámpara de tungsteno, portacubetas cuádruple, impresora, celda de absorción de temperatura constante tipo baño de agua de cuatro ranuras, celda micro de absorción ajustable en X-Y, celda de absorción de temperatura constante tipo baño simple | Software de aplicación general, portacubetas estándar de ranura simple de 1cm, portacubetas de trayectoria óptica larga, cubeta, microcubeta, rack absorvedor tipo tubo de ensayo, portamuestras para sólidos, lámpara de deuterio (solo para series UV), lámpara de tungsteno, portacubetas cuádruple, impresora, celda de absorción a temperatura constante tipo baño de agua de cuatro ranuras, microcelda de absorción ajustable X-Y, celda de absorción a temperatura constante tipo baño simple | Software de aplicación general, portacubetas estándar de ranura simple de 1 cm, portacubetas de trayectoria óptica larga, cubeta, microcubeta, soporte tipo tubo de ensayo para absorbedores, portamuestras sólidas, lámpara de deuterio (solo para serie UV), lámpara de tungsteno, portacubetas cuádruple, impresora, celda de absorción de temperatura constante tipo baño de agua de cuatro ranuras, celda de absorción micro ajustable en X-Y, celda de absorción de temperatura constante tipo baño simple |
| Dimensiones del embalaje (A*P*H) | 560*430*320 mm | 560*430*320mm | 560*430*320mm | 560×430×320 mm |
| Peso bruto | 12 kg | 12kg | 11,5kg | 11,5 kg |
| Variante | Sistema óptico | Rango de longitud de onda | Ancho de banda espectral | Exactitud de longitud de onda | Repetibilidad de longitud de onda | Exactitud fotométrica | Repetibilidad fotométrica | Luz dispersa | Estabilidad | Ruido | Pantalla | Modo fotométrico | Rango fotométrico | Detector | Fuente de luz | Entrada | Salida | Alimentación eléctrica | Accesorios estándar | Accesorios opcionales | Dimensiones del embalaje (A*P*H) | Peso bruto |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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UV-VIS 4 nm 1000
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Haz simple, rejilla de 1200 líneas/mm | 200~1100 nm | 4 nm | ±1,8 nm | ≤0,5 nm | ±0,002 A (0~0,5 Abs), ±0,004 A (0,5~1,0 Abs), ±0,5 %T (0~100 %T) | 0,001 Abs (0~0,5 Abs), 0,002 Abs (0,5~1,0 Abs), ≤0,2 %T (0~100 %T) | ≤0,2 %T @360 nm; 220 nm (UV) | ±0,002 A/h @500 nm | ±0,001 A | LCD de 128*64 puntos | T, A, C, E | 0~200 %T, -0,301~3,0 A | Fotodiodo de silicio | Lámpara de deuterio, lámpara de tungsteno | Teclado de membrana | Impresión en paralelo, USB 1.0 | CA 85~265 V, 50/60 Hz | Cubeta de vidrio de 1 cm*4, cubeta de cuarzo de 1 cm*2, portacubetas cuádruple de 1 cm*1 | Software de aplicación general, portacubetas estándar de ranura simple de 1 cm, portacubetas de recorrido óptico largo, cubeta, microcubeta, soporte absorbedor tipo tubo de ensayo, portamuestras sólidas, lámpara de deuterio (solo para series UV), lámpara de tungsteno, portacubetas cuádruple, impresora, cubeta de absorción de temperatura constante tipo baño de agua de cuatro ranuras, microcubeta de absorción ajustable en X-Y, cubeta de absorción de temperatura constante tipo baño simple | 560*430*320 mm | 12 kg |
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UV-VIS 4 nm 1200
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Haz simple, rejilla de 1200 líneas/mm | 190~1100nm | 4nm | ±1,0nm | ≤0,5nm | ±0,002A(0~0,5Abs), ±0,004A(0,5~1,0Abs), ±0,5%T(0~100%T) | 0,001Abs(0~0,5Abs), 0,002Abs(0,5~1,0Abs), ≤0,2%T(0~100%T) | ≤0,2%T@360nm; 220nm(UV) | ±0,002A/h@500nm | ±0,001A | LCD de 128×64 puntos | T, A, C, E | 0~200%T, -0,301~3,0A | Fotodiodo de silicio | Lámpara de deuterio, lámpara de tungsteno | Teclado de membrana | Impresión por puerto paralelo, USB 1.0 | AC85~265V, 50/60Hz | Cubeta de vidrio de 1 cm×4, cubeta de cuarzo de 1 cm×2, portacubetas cuádruple de 1 cm×1 | Software de aplicación general, portacubetas estándar de un solo canal de 1 cm, portacubetas de trayectoria óptica larga, cubeta, microcubeta, soporte absorvedor tipo tubo de ensayo, portamuestras sólidas, lámpara de deuterio (solo para serie UV), lámpara de tungsteno, portacubetas cuádruple, impresora, celda de absorción de temperatura constante tipo baño de agua de cuatro ranuras, celda micro de absorción ajustable en X-Y, celda de absorción de temperatura constante tipo baño simple | 560*430*320mm | 12kg |
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VIS 4 nm 1000
|
Haz simple, rejilla 1200 líneas/mm | 325~1100nm | 4nm | ±1,8nm | ≤0,5nm | ±0,002A(0~0,5Abs), ±0,004A(0,5~1,0Abs), ±0,5%T(0~100%T) | 0,001Abs(0~0,5Abs), 0,002Abs(0,5~1,0Abs), ≤0,2%T(0~100%T) | ≤0,2%T@360nm; 220nm(UV) | ±0,002A/h@500nm | ±0,001A | LCD de 128*64 puntos | T, A, C, E | 0~200%T, -0,301~3,0A | Fotodiodo de silicio | Lámpara de deuterio, lámpara de tungsteno | Teclado de membrana | Impresión en paralelo, USB 1.0 | AC85~265V, 50/60Hz | Cubeta de vidrio de 1cm*4, portacubetas cuádruple de 1cm*1 | Software de aplicación general, portacubetas estándar de ranura simple de 1cm, portacubetas de trayectoria óptica larga, cubeta, microcubeta, rack absorvedor tipo tubo de ensayo, portamuestras para sólidos, lámpara de deuterio (solo para series UV), lámpara de tungsteno, portacubetas cuádruple, impresora, celda de absorción a temperatura constante tipo baño de agua de cuatro ranuras, microcelda de absorción ajustable X-Y, celda de absorción a temperatura constante tipo baño simple | 560*430*320mm | 11,5kg |
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VIS 4 nm 1200
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Haz simple, rejilla de 1200 líneas/mm | 320~1100 nm | 4 nm | ±1,0 nm | ≤0,5 nm | ±0,002 A (0~0,5 Abs), ±0,004 A (0,5~1,0 Abs), ±0,5 %T (0~100 %T) | 0,001 Abs (0~0,5 Abs), 0,002 Abs (0,5~1,0 Abs), ≤0,2 %T (0~100 %T) | ≤0,2 %T@360 nm; 220 nm (UV) | ±0,002 A/h@500 nm | ±0,001 A | LCD de 128×64 puntos | T, A, C, E | 0~200 %T, -0,301~3,0 A | Fotodiodo de silicio | Lámpara de deuterio, lámpara de tungsteno | Teclado de membrana | Impresión en paralelo, USB 1.0 | CA 85~265 V, 50/60 Hz | Cubeta de vidrio de 1 cm ×4, portacubetas cuádruple de 1 cm ×1 | Software de aplicación general, portacubetas estándar de ranura simple de 1 cm, portacubetas de trayectoria óptica larga, cubeta, microcubeta, soporte tipo tubo de ensayo para absorbedores, portamuestras sólidas, lámpara de deuterio (solo para serie UV), lámpara de tungsteno, portacubetas cuádruple, impresora, celda de absorción de temperatura constante tipo baño de agua de cuatro ranuras, celda de absorción micro ajustable en X-Y, celda de absorción de temperatura constante tipo baño simple | 560×430×320 mm | 11,5 kg |
Guia de compra
Equipo para análisis UV-Vis por absorción de radiación, aplicable cuando el laboratorio trabaja con métodos en monitorización ambiental, ciencias de la vida, análisis de alimentos, química orgánica o bioquímica.
Para seleccionar la variante, la diferencia principal es el rango de longitud de onda: hay rango de longitud de onda 195/200/320/325-1100 nmes desde 195~1100 nm, 200~1100 nm, 320~1100 nm y 325~1100 nm. Si el método requiere cubrir una zona UV más baja, conviene priorizar las rango de longitud de onda 195/200/320/325-1100 nmes que parten en 195 nm o 200 nm. Si el trabajo se concentra sobre 320 nm o 325 nm, las variantes de rango más acotado pueden ser suficientes.
También debe revisarse la precisión de longitud de onda, la salida requerida para datos o impresión, y los accesorios de cubetas incluidos según el método de trabajo.
Que cambia entre variantes
Para seleccionar la variante, la diferencia principal es el rango de longitud de onda: hay rango de longitud de onda 195/200/320/325-1100 nmes desde 195~1100 nm, 200~1100 nm, 320~1100 nm y 325~1100 nm. Si el método requiere cubrir una zona UV más baja, conviene priorizar las rango de longitud de onda 195/200/320/325-1100 nmes que parten en 195 nm o 200 nm. Si el trabajo se concentra sobre 320 nm o 325 nm, las variantes de rango más acotado pueden ser suficientes.
Escenarios de uso recomendados
También debe revisarse la precisión de longitud de onda, la salida requerida para datos o impresión, y los accesorios de cubetas incluidos según el método de trabajo.
Como elegir rapido
También debe revisarse la precisión de longitud de onda, la salida requerida para datos o impresión, y los accesorios de cubetas incluidos según el método de trabajo.
Recomendacion de compra
También debe revisarse la precisión de longitud de onda, la salida requerida para datos o impresión, y los accesorios de cubetas incluidos según el método de trabajo.